Автоматизация нанесения фоторезиста и проявления тензорезисторов
На заводе ZEMIC реализовано полностью автоматическое нанесение фоторезиста на заготовки, производственная линия модернизирована новой многоголовочной автоматической установкой для проявления.
На заводе ZEMIC реализовано полностью автоматическое нанесение фоторезиста на заготовки, производственная линия модернизирована новой многоголовочной автоматической установкой для проявления. Вместе с применением новой формулы травителя для сплава Карма, эти нововведения обеспечили повышение качества и стабильности параметров тензорезисторов. Также, стало возможным производство высокоомных тензорезисторов с малыми габаритными размерами, например, тензорезистор с сопротивлением 3 кОм на подложке с габаритным размером 1,7 х 1,7 мм.
Качество краев решетки повышено как для тензорезисторов из константана
Фото: фрагмент чувствительной решетки тензорезистора под микроскопом (темный цвет – фольга, светлый – подложка).
Так и для тензорезисторов из сплава Карма
Фото: фрагмент чувствительной решетки тензорезистора под микроскопом (темный цвет – фольга, светлый – подложка).